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Fichier:Leiterbahn ausfallort elektromigration.jpg

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Leiterbahn_ausfallort_elektromigration.jpg (512 × 512 pixels, taille du fichier : 65 kio, type MIME : image/jpeg)

Description
Deutsch: Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Plasmaätzen (RIE) und w:de:Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das bestmögliche Resultat zu erlangen.
English: SEM image of a failure caused by electromigration in a copper interconnect. The passivation has been removed by RIE and HF
Source Mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen
Auteur Patrick-Emil Zörner
Autres versions keine bekannt!


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Original authors

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  • Source: de.wikipedia.org
  • Image contributor(s): Paddy
    • 2004-03-03T00:01:48Z UTC Paddy 512x512 (66389 bytes)

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Date et heureVignetteDimensionsUtilisateurCommentaire
actuel6 mars 2007 à 18:24Vignette pour la version du 6 mars 2007 à 18:24512 × 512 (65 kio)CommonismNow{{Information| |Description=Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Reactive Ion Etching (RIE) und [[w:de:Fluorwasserst

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